Journal des nanomatériaux et de la nanotechnologie moléculaire

Simulation 2D de l'émission d'électrons de Fowler-Nordheim dans la lithographie par sonde à balayage

Steve Lenk, Marcus Kaestner, Claudia Lenk, Tihomir Angelov, Yana Krivoshapkina et Ivo W Rangelow

Simulation 2D de l'émission d'électrons de Fowler-Nordheim dans la lithographie par sonde à balayage

Pour la fabrication d'ordinateurs quantiques, il sera nécessaire de fabriquer régulièrement des dispositifs avec des dimensions critiques jusqu'à la gamme nanométrique à un seul chiffre. Étant donné les coûts élevés et le développement tardif de la lithographie UV extrême, nous nous concentrons sur la lithographie par sonde à balayage (SPL) utilisant des électrons émis par Fowler-Nordheim pour la structuration de matériaux de résistance moléculaire. Notre méthode est similaire à la lithographie par faisceau d'électrons avec des émetteurs d'électrons spéciaux, c'est-à-dire nos nanopointes, se différenciant par l'énergie beaucoup plus faible des électrons émis et la possibilité de travailler dans des conditions ambiantes. Sur la base de la technologie de cantilever piézorésistif à actionnement thermomécanique, notre groupe a développé un premier prototype d'une plate-forme de lithographie par sonde à balayage capable d'imager, d'inspecter, d'aligner et de structurer des caractéristiques jusqu'au régime du nanomètre unique. Nous présentons ici des études théoriques sur l'émission d'électrons et l'exposition de surface aux électrons émis. Notre modèle de simulation et les hypothèses utilisées sont décrits. Les distributions de champ électrique et de densité électronique résultantes sont analysées pour obtenir des informations plus approfondies sur la pertinence des paramètres d'exposition lithographique.

Avertissement: Ce résumé a été traduit à l'aide d'outils d'intelligence artificielle et n'a pas encore été examiné ni vérifié